| スパッタリングターゲット、製造、加工なら【有限会社ケミストン】

純度：2N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：

分割になる境界サイズ：

用途： 誘電体・干渉層

純度：4N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：５００ｍｍ

用途： 磁性膜

純度：3N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ５０

分割になる境界サイズ：１２７ｍｍ

用途： 抵抗膜

純度：3N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：４５０ｍｍ

用途： 下地材料

純度：4N5

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：４５０ｍｍ

用途： 電極材料・配線

純度：3N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：４５０ｍｍ

用途： 整流用陽極膜

純度：4N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：５００ｍｍ

用途： 磁性膜・電極材料

純度：3N5

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ１０、１０ｘ１０ｍｍ

分割になる境界サイズ：５００ｍｍ

用途： 電極材料・配線・ガラスマスク・下地材料

純度：2N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ５０

分割になる境界サイズ：１２７ｍｍ

用途： 密着性膜

純度：３N

加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

加工可能最小サイズ：Φ５０

分割になる境界サイズ：４００ｍｍ

用途： 酸化膜・誘電体