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  • 金属Mg

    純度:

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: Mg全体の約40%はアルミへの添加材になります。
    ゲッター材、電磁...

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  • Hf(ハフニウム)

    純度:2N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: 誘電体・干渉層

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  • C(炭素)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:450mm

    用途: 固体潤滑膜

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  • Au(金)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:1000mm

    用途: Contacts・高反射フィルム

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  • Si(ケイ素)

    純度:5N以上

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:400mm

    用途: 光学用干渉フィルター・BLディスク・ガラスマスク

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  • Ge(ゲルマニウム)

    純度:5N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:250mm

    用途: High Index Film(高屈折率フィルム)・太陽電池

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  • Co(コバルト)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:400mm

    用途: 磁性フィルム・磁歪振動子

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  • Al(アルミニウム)

    純度:4N~5N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:500mm

    用途: 電極材料、高反射ミラー

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  • B(ホウ素)

    純度:2N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: Semicon Diffusion layer(セミコン拡散層)

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  • Cr(クロム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:300mm

    用途: フォトマスク・ガラスマスク

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  • 納品までの流れ
  • ケミストンの強み
  • スパッタリングターゲットについて