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  • BLディスク
  • ガラスマスク
  • ゲート絶縁膜
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  • タッチパネル
  • バッファ層
  • 下地材料
  • 保護膜
  • 光学用干渉フィルター
  • 光屈折率効果
  • 光触媒
  • 固体潤滑膜
  • 圧電効果材
  • 垂直磁気
  • 太陽電池
  • 媒体
  • 抵抗膜
  • 磁性フィルム
  • 磁歪振動子
  • 触媒効果
  • 電極材料
  • 高反射ミラー
  • 高屈折率膜
  • Al(アルミニウム)

    純度:4N~5N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:500mm

    用途: 電極材料、高反射ミラー

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  • B(ホウ素)

    純度:2N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: Semicon Diffusion layer(セミコン拡散層)

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  • Cr(クロム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:300mm

    用途: フォトマスク・ガラスマスク

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  • Cu(銅)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:1000mm

    用途: 電極材料・タッチパネル

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  • 納品までの流れ
  • ケミストンの強み
  • スパッタリングターゲットについて