会社案内

ごあいさつ

弊社は、1978年折しもプレーナマグネトロン方式が世に出てまもなく創業した会社です。
この方法は電解と磁界が交差した箇所をスパッタする方式で、生産性の高いスパッタリングは瞬く間に全世界に広まり、今日の隆盛を迎えました。
薄膜の主流を歩むスパッタリングターゲットも幾多の変遷を経て、150種類の単元素から75000種類にも及ぶ三元合金他、セラミックス等、枚拳にいとまがないほどの隆盛を極めております。

弊社は、全て1枚から誠意を込め、丹念に製品を仕上げてターゲットを提供するべく努力を重ねております。
ターゲットの製造方法は多岐に渡りますが、複眼思考方で作る技術を次世代にも伝承したいと考えています。
セールスマネージャー 石川晋

企業理念

責任ある企業行動により、社会の発展に貢献します。人と技術とサービスで、お客様のために新たな価値を創造します。社員一人ひとりが喜びと誇りを持ち、活力ある企業風土を醸成します。

会社概要

会社名 有限会社ケミストン
所在地 〒350-0153 埼玉比企郡郡川町飯島47-3
TEL 049-297-5831
FAX 049-297-5819
設立 1978年11月30日
資本金 1,000万円
代表者 石川 富士夫
役員 石川 晋
樋口 節子
事業内容 新素材の研究開発、製造販売ならびに輸出入
(超電導材料・半導体材料・薄膜材料・電子材料・真空蒸着材料・スパッタ材料・セラミックス材料・誘電体材料・エネルギー材料・光学材料・圧電材料・液晶関連材料・単結晶材料など)

沿革

  
1978 耐熱ホーローコーティング及びスパッタリングターゲットの販売
1980 スパッタリングターゲットの製造方法に関する特許を申請する。許可No第1523452号取得
1981 マグネタイトターゲットの販売を開始する。
1982 埼玉県比企郡川島町に工場用地を取得する。
1984 同地に工場を建設する。
1988 第一期拡張工事を行う。
1989 第ニ期拡張工事を行う。
1995 増資を行い、資本金300万円にする。
1996 SiCターゲットの安定供給を開始する。
1999 薄膜加工サービスを始める。
2000 ターゲット ボンド加工の大型化に伴い設備を拡張する。
2004 E/B蒸着用にアーク溶解法を使い、メタルタブレットを量産する。
2004 スパッタ装置 500☓500導入
2006 新資本金を1,000万円にする。
2008 ホームページ開設
2012 ホームページリニューアル
2017 ホームページリニューアル

アクセス

  • 機械加工
  • ボンディング加工
  • 検査・分析
  • ケミストンの技術