ケミストンの技術｜ターゲット材料、製造、加工なら【有限会社ケミストン】

真空溶解をすることにより、ガス成分、気体分子を減らすことにより高純度の製品を作ることが出来ます。

1枚1枚精魂込めて丁寧に製造いたします。

真空雰囲気中で溶解して、不可避不純物であるPdの含有量をある基準値まで制御するスパッタリングターゲットの製造方法。

粉末を製造して、原料を不活性ガス雰囲気中または真空中で溶解し、アルゴンガスまたは窒素ガスの不活性ガスでアトマイズを行います。
このとき溶融状態から直接、急速凝固されるため、凝固組織が非常に微細で、組成的にも均一性の高い、平均粒径が数十μｍの球状粉末が作製できます。

ターゲットを円形や角形の長物に加工します。

丸棒加工したターゲットなどを薄くスライスしたりカッティングをする加工法です。

ワイヤー線に電流を流し、ターゲットをきれいに切断する加工法です。

砥石を高速回転させ、材料の表面を削り厚さの調整などを行う加工法のことです。

セラミックの粉を固めたものを窯で焼き、固くして削るなどの加工を加えます。