の検索結果

  • TiO2

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 高屈折率膜

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  • SiO2(溶融セキエイ)

    純度:4N~5N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:200mm

    用途: 光触媒

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  • Nb205

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 保護膜

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  • Ta(タンタル)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ5、5x5mm

    分割になる境界サイズ:300mm

    用途: コンデンサー

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  • Ta-SiO2

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 抵抗膜

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  • Ta205

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: ゲート絶縁膜・コンデンサー

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  • SiAlON(サイアロン)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 保護膜

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  • PLAZT

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: 圧電効果材

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  • PbZrTiOx

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 圧電効果材

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  • NiFe

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:200mm

    用途: 媒体

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  • 納品までの流れ
  • ケミストンの強み
  • スパッタリングターゲットについて