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  • クオーツ
  • スパッタ安定
  • ルチル
  • 低抵抗品
  • 低温密着性大
  • 均質焼結体
  • 微細組織品
  • 真空溶解品
  • 純度安定
  • 組成のバラツキ小
  • 結晶粒を細粒化
  • 絶妙な配合
  • 高密度品
  • Pr(プラセオジム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 発色タイル

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  • Ce(セリウム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 超伝導膜

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  • La(ランタン)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 光学用レンズ

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  • Zn(亜鉛)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:300mm

    用途: コンデンサー

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  • Zr(ジルコニウム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: 干渉フィルター

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  • Ta(タンタル)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: コンデンサー・電極材料

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  • Re(レニウム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 抵抗膜

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  • W(タングステン)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:450mm

    用途: 下地材料

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  • Ti(高純度チタン)

    純度:4N5

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:450mm

    用途: 電極材料・配線

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  • Nb(ニオブ)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:450mm

    用途: 整流用陽極膜

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  • Ni(ニッケル)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:500mm

    用途: 磁性膜・電極材料

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  • Mo(モリブデン)

    純度:3N5

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:500mm

    用途: 電極材料・配線・ガラスマスク・下地材料

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  • Mn(マンガン)

    純度:2N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:127mm

    用途: 密着性膜

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  • Mg(マグネシウム)

    純度:3N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:400mm

    用途: 酸化膜・誘電体

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  • Fe(鉄)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:500mm

    用途: 磁性膜

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  • Hf(ハフニウム)

    純度:2N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:

    分割になる境界サイズ:

    用途: 誘電体・干渉層

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  • C(炭素)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:450mm

    用途: 固体潤滑膜

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  • Au(金)

    純度:4N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:1000mm

    用途: Contacts・高反射フィルム

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  • Si(ケイ素)

    純度:5N以上

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ10、10x10mm

    分割になる境界サイズ:400mm

    用途: 光学用干渉フィルター・BLディスク・ガラスマスク

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  • Ge(ゲルマニウム)

    純度:5N

    加工可能サイズ※ご要望によりどのような形状でも加工可能です

    加工可能最小サイズ:Φ50

    分割になる境界サイズ:250mm

    用途: High Index Film(高屈折率フィルム)・太陽電池

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  • 納品までの流れ
  • ケミストンの強み
  • スパッタリングターゲットについて